高溫真空氣氛管式爐設計用于1100℃或1700℃以下CVD工藝。采用開啟式設計，方便樣品操作及爐管更換。高純電阻絲內嵌在輕質陶瓷纖維材料中，周邊拓展系統齊全，適合高校、科研院所實驗之使用。

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詳細介紹

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一、儀器介紹：

高溫真空氣氛管式爐設計用于1100℃或1700℃以下CVD工藝。采用開啟式設計，方便樣品操作及爐管更換。高純電阻絲內嵌在輕質陶瓷纖維材料中，周邊拓展系統齊全，高溫真空氣氛管式爐適合高校、科研院所實驗之使用。

高溫真空氣氛管式爐

二、儀器特點：

1.最高溫度1100℃、1700℃。

2.分體式設計，降溫速率快。
3.工作管徑范圍φ30mm、φ40mm、φ50mm、φ60mm、φ80mm、φ100mm。
4.高純氣煉石英管或者高純陶瓷管。

5.輕質陶瓷纖維隔熱材料，耐熱沖擊性好，蓄熱低。

6.快速升溫，升溫速率可達10℃。

7.半導體繼電器控制加熱元器件，控溫精確，壽命長，無噪音。

8.多段程序控溫，PID調節，可編制多種升降溫程序。

9.超溫保護功能，超溫自動斷電。

高溫真空氣氛管式爐

三、可選配置：

1.真空泵
2.多區控溫，兩溫區YMG(2)系列或三溫區YMG(3)系列（如下圖）
3.瑞典kanthal 電熱絲

4.數顯真空計（高精度顯示真空值）

5.多路氣氛混氣系統（浮子流量計或質量流量計）

6.無紙紀錄儀（帶通訊端口）

四、技術參數：

產品咨詢

高溫真空氣氛管式爐設計用于1100℃或1700℃以下CVD工藝。采用開啟式設計，方便樣品操作及爐管更換。高純電阻絲內嵌在輕質陶瓷纖維材料中，周邊拓展系統齊全，適合高校、科研院所實驗之使用。